Veuillez utiliser cette adresse pour citer ce document :
http://dspace.univ-bouira.dz:8080/jspui/handle/123456789/9159| Titre: | Effect of deposition rate and thickness on the structural and electrical properties of evaporated Ni/glass and N/Si (1 0 0) thin films |
| Auteur(s): | Benabbas, Abderrahim |
| Date de publication: | 1-déc-2008 |
| Editeur: | Université Akli Mouhand Oulhadj-Bouira |
| URI/URL: | http://dspace.univ-bouira.dz:8080/jspui/handle/123456789/9159 |
| Collection(s) : | Articles |
Fichier(s) constituant ce document :
| Fichier | Description | Taille | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Effect of deposition rate and thickness on the structural and electrical properties of evaporated Ni.pdf | 247,85 kB | Adobe PDF | Voir/Ouvrir |
Tous les documents dans DSpace sont protégés par copyright, avec tous droits réservés.