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http://dspace.univ-bouira.dz:8080/jspui/handle/123456789/9159
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Élément Dublin Core | Valeur | Langue |
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dc.contributor.author | Benabbas, Abderrahim | - |
dc.date.accessioned | 2020-10-18T09:31:39Z | - |
dc.date.available | 2020-10-18T09:31:39Z | - |
dc.date.issued | 2008-12-01 | - |
dc.identifier.uri | http://dspace.univ-bouira.dz:8080/jspui/handle/123456789/9159 | - |
dc.language.iso | en | en_US |
dc.publisher | Université Akli Mouhand Oulhadj-Bouira | en_US |
dc.title | Effect of deposition rate and thickness on the structural and electrical properties of evaporated Ni/glass and N/Si (1 0 0) thin films | en_US |
dc.type | Article | en_US |
Collection(s) : | Articles |
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Fichier | Description | Taille | Format | |
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Effect of deposition rate and thickness on the structural and electrical properties of evaporated Ni.pdf | 247,85 kB | Adobe PDF | Voir/Ouvrir |
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